Forno horizontal de purificação de pó de grafite
É um novo forno de grafitação de alta temperatura desenvolvido com base no atual forno de grafitação de ultra-alta temperatura, principalmente aplicável para purificação de pó de grafite e tratamento de alta temperatura.
Característica:
1. Alta temperatura de trabalho, a temperatura mais alta pode atingir 3000℃.
2. Pode trabalhar por um longo tempo na faixa de 2600-2800℃, boa uniformidade de temperatura, área de temperatura constante longa, baixa taxa de falha na operação do equipamento. A média
temperatura é maior do que o forno de grafitação vertical, operando convenientemente.
3. Excelente desempenho de vedação do corpo do forno, menos perda de proteção de ar. Todos os flanges e a tampa do forno adotam uma tira de vedação para vedar, o interior da caldeira do corpo do forno e o flange adotam aço inoxidável para fazer, inoxidável e longa vida útil. Equipado com bomba de vácuo usada para substituir o ar no forno, curto tempo de substituição do ar e menos uso de ar.
Uniformidade da temperatura do forno:
Velocidade de aquecimento final: 100℃/min (forno vazio, depende do volume de alta
volume de temperatura e da estrutura da fornalha), uniformidade da temperatura do forno: ≤±10℃,
Controle de temperatura: controle de processo e controle manual; a precisão do controle de temperatura: ±1℃
Aplicação:
Sinterização de alta temperatura de material de liga dura, tratamento de alta temperatura de material negativo de bateria, alta temperatura de pó de grafite, carbonização para fibra de carbono, tratamento de grafitação de material negativo de grafite e grafeno; sinterização de alta temperatura de material de contato, cerâmica fina e elemento de alta temperatura; alta sinterização de material de metalurgia do pó, carboneto de tungstênio e tais produtos; produto de sinterização de acabamento sob atmosfera de proteção N2.
Parâmetro de tecnologia:
Volume (L)
|
125 |
196 |
282 |
550 |
1000 |
Método de Controle de Temperatura |
1000 |
|
2800 |
Zona de Aquecimento Efetiva (Mm) |
Zona de Aquecimento Efetiva (Mm) |
Zona de Aquecimento Efetiva (Mm) |
Zona de Aquecimento Efetiva (Mm) |
Zona de Aquecimento Efetiva (Mm) |
Temperatura Limite (°C) |
|
3000 |
2800 |
2800 |
2800 |
2800 |
2800 |
Zona de Aquecimento Efetiva (Mm) |
|
Φ400X1000 |
Φ500X1000 |
Φ600X1000 |
Φ700X1400 |
Φ900X1600 |
Φ1000X2000 |
Potência (KW) |
|
150 |
200 |
300 |
500 |
600 |
800 |
Frequência (HZ) |
|
1500 |
1000 |
Método de Controle de Temperatura |
Método de Controle de Temperatura |
Método de Controle de Temperatura |
Método de Controle de Temperatura |
Método de Controle de Temperatura |
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Termostato elétrico da ilha japonesa |
Método de Aquecimento |
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Aquecimento por indução |
Sistema de Vácuo |
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Bomba de vácuo de palheta rotativa (requisito de alto vácuo com bomba de vácuo Roots) |
Atmosfera de Sinterização |
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N2, Ar2 e outros gases |
Tensão de Alimentação Nominal (V) |
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380 |
Tensão de Aquecimento Nominal (V) |
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750 |
Limite de Vácuo (Pa) |
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100 (estado frio de vácuo) |
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