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Controllo PID Forno al carburo di silicio per trattamento termico sottovuoto 150 Watt Stabile

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Controllo PID Forno al carburo di silicio per trattamento termico sottovuoto 150 Watt Stabile
Caratteristiche Galleria Descrizione di prodotto Richieda una citazione
Caratteristiche
Specificazioni
Nome: Forno di trattamento termico a vuoto
Caratteristica: Facile operazione
Dimensione (l*w*h): Costume
Metodo di raffreddamento: raffreddamento della circolazione interna
Temperatura di funzionamento massima: 2450 °C
Applicazione: carburo di silicio, ceramiche
Evidenziare:

Fornace ad alta temperatura di vuoto

,

Fornaci di brasatura a vuoto

Informazioni di base
Luogo di origine: Cina
Marca: OEM
Certificazione: CE Certification
Numero di modello: OEM
Termini di pagamento e spedizione
Imballaggi particolari: Cartone, pallet, custodia di legno o secondo le richieste del cliente
Tempi di consegna: 30 giorni lavorativi
Termini di pagamento: 30% di deposito + 70% T/T prima della spedizione
Capacità di alimentazione: 20 set al mese
Descrizione di prodotto

Controllo PID Forno al Carburo di Silicio, Forno per Trattamento Termico Sotto Vuoto 150w

 

Applicazione del Forno al Carburo di Silicio:

 

Forno per Trattamento Termico Sotto Vuoto Utilizzato principalmente per la ricristallizzazione del carburo di silicio

 

Principali prestazioni tecniche e indicatori del forno al carburo di silicio

 

Temperatura massima di esercizio: 2450 ° C

Temperatura comune: 2400 ° C

Metodo di riscaldamento: riscaldamento a induzione

Gas di lavoro nel forno: azoto, argon

Uniformità della temperatura: ≤ ± 10 ° C

In base alle esigenze del tempo di processo di sinterizzazione, è possibile disporre più forni elettrici in un'unica alimentazione e il riscaldamento e il raffreddamento dei singoli forni possono essere eseguiti rispettivamente per ottenere un funzionamento continuo.

Misurazione della temperatura: termocoppia WRe5/26 (0-1700 °C) + termometro a infrarossi colorimetrico doppio US RATEK (1000-3200 ° C); termometro a infrarossi monocromatico US RATEK (300-1100 ° C) + termometro a infrarossi a doppio rapporto US RATEK (1000-3200 ° C)

Controllo della temperatura: controllo del programma intelligente PID e controllo manuale

Prestazioni superiori del processo, che rendono la qualità del prodotto un nuovo passo

Il dispositivo adotta l'acquisizione dati multicanale e visualizza e opera sull'interfaccia uomo-macchina. I parametri operativi sono chiari a colpo d'occhio, il funzionamento è semplice e l'intensità del lavoro è bassa;

Il dispositivo ha funzioni di registrazione e scarico dei dati e i dati possono essere visualizzati tramite la curva storica e possono essere trasferiti al supporto di memorizzazione mobile;

Risparmio energetico, bobina speciale e struttura isolante, uscita di potenza stabile ed elevata efficienza elettrica.

 

Volume (L) 192 350 484 1920
Temperatura nominale (°C) 2400 2400 2400 2400
Temperatura limite (°C) 2450 2450 2450 2450
Zona di riscaldamento efficace (mm) 400X400X1200 500X500X1400 550X550X1600 800X800X3000
Potenza (KW) 150 250 350 550
Frequenza (HZ) 1500 1000 1000 1000
Metodo di controllo della temperatura Termostato elettrico dell'isola giapponese
Sistema di vuoto Pompa per vuoto a valvola a spola + pompa per vuoto Roots
Atmosfera di sinterizzazione N2, Ar2, ecc.
Tensione di alimentazione nominale (V) 380
Tensione di riscaldamento nominale (V) In base al progetto, configurare il trasformatore
Limite di vuoto (pa) 40 (stato freddo del vuoto)
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