Промышленная высокотемпературная вакуумная печь / Лабораторная печь для спекания 2400 ° C

Вакуумная печь для высокотемпературного нагрева / Лабораторная печь для спекания 2400 °C

Применение высокотемпературной вакуумной печи:

Высокотемпературная вакуумная печь в основном используется для спекания в вакууме и спекания в атмосфере карбида кремния, керамики, твердого сплава, порошковой металлургии, вольфрама, молибдена, алюмо-никель-кобальтовых постоянных магнитов, Smco5, Sm2co17, алюминиевых сплавов, титановых сплавов и других сплавных материалов. В соответствии с потребностями времени процесса спекания, для настройки нескольких электрических печей может использоваться один комплект источника питания, а отдельные печи, соответственно, включаются для нагрева и выключаются для охлаждения, чтобы обеспечить непрерывную работу.

Основные характеристики высокотемпературной вакуумной печи

Общая температура: 2400 °C

Объем высокотемпературной зоны: 200-2000 мм × 300-4000 мм; или квадрат

Метод нагрева: индукционный нагрев

Рабочий газ в печи: азот, аргон

Равномерность температуры: ≤ ± 10 °C

Контроль температуры: интеллектуальное программное управление PID и ручное управление

Точность контроля температуры: ±1 °C

В соответствии с потребностями времени процесса спекания, несколько электрических печей могут быть расположены в одном источнике питания, и нагрев и охлаждение отдельных печей могут выполняться соответственно для достижения непрерывной работы.

Устройство имеет функции регистрации и выгрузки данных, и данные можно просматривать через исторические кривые и передавать на съемные носители.