工業用高温真空炉/ラボ焼結炉 2400℃
高温真空炉の用途:
高温真空炉は、主に炭化ケイ素、セラミックス、超硬合金、粉末冶金、タングステン、モリブデン、アルミ-ニッケル-コバルト永久磁石、Smco5、Sm2co17、アルミニウム合金シェッド、チタン合金などの合金材料の真空焼結および雰囲気焼結に使用されます。焼結プロセスの時間的ニーズに応じて、単一の電源を使用して複数の電気炉を構成でき、個々の炉をそれぞれ通電して加熱し、電源をオフにして冷却することで、連続運転を実現できます。
高温真空炉の主な仕様
常用温度：2400℃
高温ゾーンの体積：200-2000mm×300-4000mm; または正方形
加熱方法：誘導加熱
炉内の作業ガス：窒素アルゴン
温度均一性：≤±10℃
温度制御：PIDインテリジェントプログラム制御および手動制御
温度制御精度：±1℃
焼結プロセスの時間的ニーズに応じて、単一の電源に複数の電気炉を配置でき、個々の炉の加熱と冷却をそれぞれ実行して、連続運転を実現できます。
このデバイスはデータロギングとダンプ機能を備えており、履歴曲線を通じてデータを確認し、リムーバブルストレージメディアに転送できます。
| 容量 (L) | 192 | 350 | 484 | 1920 |
| 定格温度 (℃) | 2400 | 2400 | 2400 | 2400 |
| 限界温度 (℃) | 2450 | 2450 | 2450 | 2450 |
| 有効加熱ゾーン (mm) | 400X400X1200 | 500X500X1400 | 550X550X1600 | 800X800X3000 |
| 電力 (KW) | 150 | 250 | 350 | 800 |
| 周波数 (HZ) | 1500 | 1000 | 1000 | 1000 |
| 温度制御方法 | 日本島電サーモスタット | |||
| 加熱方法 | 誘導加熱 | |||
| 真空システム | ロータリーベーン真空ポンプまたはスプール型真空ポンプ + ルーツ真空ポンプ (真空度要件は高油拡散ポンプ) | |||
| 焼結雰囲気 | N2、Ar2など | |||
| 定格電源電圧 (V) | 380 | |||
| 定格加熱電圧 (V) | 設計に応じて変圧器を構成 | |||
| 真空限界 (pa) | 6X10⁻² (真空コールド状態) | |||
