Φούρνος Αντίστασης Τύπου Κιβωτίου, Έλεγχος Θερμομέτρου Υπέρυθρης Ακτινοβολίας, Θέρμανση Εργαστηρίου/Βιομηχανίας
Ο Φούρνος Αντίστασης Τύπου Κιβωτίου χρησιμοποιεί πολλαπλές πηγές θέρμανσης, π.χ. φούρνο μικροκυμάτων και ηλεκτρικό, το οποίο μπορεί να θερμάνει υλικά με υψηλότερη απόδοση θέρμανσης, ταχύτερη ταχύτητα θέρμανσης και καλύτερη ομοιομορφία θέρμανσης.
Το Σύστημα Ασφαλείας του Μαγνητρόν με συναγερμό υπερβολικής θερμοκρασίας
Το Σώμα του Φούρνου (Μ×Π×Υ) περίπου 850×650×850mm
Ο φούρνος μουφλ μπορεί να προσαρμοστεί σε σύνθεση, αποτέφρωση, θερμική επεξεργασία, ψήσιμο, ασβεστοποίηση, πυροσυσσωμάτωση καθώς και σε άλλες χημικές διεργασίες υπό συνθήκες ατμόσφαιρας αέρα.
| Παράμετροι | ||
| Ισχύς | Τάση | 380V±10V 50Hz |
| Ονομαστική Ισχύς | 6KW | |
| Ηλεκτρική Ισχύς Θέρμανσης | 3KW | |
| Μικροκύματα Σύστημα |
Μικροκύματα Ισχύς Εξόδου |
0.10~1.40KW συνεχώς ρυθμιζόμενο |
| Συχνότητα Μικροκυμάτων | 2.45GHz | |
| Πρόληψη Διαρροής Μικροκυμάτων | ένταση διαρροής μικροκυμάτων<2mW>2 | |
| Θερμικό Σύστημα Μόνωσης |
Tmax | 1600°C |
| Θερμοκρασία Λειτουργίας | 0~1550°C | |
| Χώρος Θέρμανσης (Μ×Π×Υ) | 110×110×70mm | |
| Έλεγχος Θερμοκρασίας Σύστημα |
Θερμοκρασία Μέθοδος Μέτρησης |
υπέρυθρο θερμόμετρο |
| Θερμοκρασία Εύρος Μέτρησης |
300~1800°C | |
| Θερμοκρασία Ακρίβεια Ελέγχου |
±0.1% | |
| Έλεγχος Σύστημα |
Αυτόματος, Χειροκίνητος και Ισοθερμικός Τρόπος Ελέγχου, PLC+Οθόνη Αφής |
40 τμήματα προγραμματιζόμενων τεχνικών παραμέτρων, αποθήκευση και εξαγωγή δεδομένων, εμφάνιση δεδομένων καμπύλης σε πραγματικό χρόνο, δυναμική εμφάνιση δεδομένων |