Four à vide de laboratoire à film haute conductivité pour la production de graphitisation de film PI

Four à graphitation de film à haute conductivité pour la production de graphitation de film PI

Application :

Il est appliqué à la production de graphitation de film à haute conductivité thermique (film PI).

Caractéristiques :

L'uniformité de la température du corps du four : chauffage par induction à moyenne fréquence, chauffage rapide, haute efficacité, conception unique du four, améliorant considérablement l'uniformité de la température du four ;
Faible consommation d'énergie et bonne stabilité : la première utilisation au monde d'un matériau isolant en briques d'alumine à double couche pour éviter les courts-circuits du feutre de carbone et de la bobine, une bonne isolation thermique et une résistance au feu, de faibles pertes de chaleur et une bonne stabilité de l'équipement ;
Selon les besoins du temps de processus de frittage, une pluralité de fours électriques peuvent être disposés dans une seule alimentation électrique, et la pluralité de fours sont respectivement mis sous tension pour augmenter la température et hors tension et refroidir pour réaliser un fonctionnement continu ;
Système de surveillance du débit numérique, surveillance et protection du débit d'eau de chaque armoire d'alimentation, contacteur haute performance à moyenne fréquence pour la conversion du four ; système complet de contrôle et de protection automatique de l'eau, de l'électricité et du gaz par automate programmable.
Les principaux paramètres techniques :
Température de fonctionnement maximale : 3000 °C
Température courante : 2800 °C
Atmosphère de travail dans le four : vide, hydrogène, azote, gaz inertes, etc.
Uniformité de la température : ≤ ± 25 °C
Mesure de la température : mesure de la température optique infrarouge lointain (1000-3200 °C) ;
Précision de la mesure de la température : 0,2 à 0,75 %
Contrôle de la température : contrôle par programme et contrôle manuel ; précision du contrôle de la température : ± 1 °C