Высокопроводящая пленочная вакуумная печь для лаборатории для производства графитизации PI-пленки

Графитизационная печь для высокопроводящей пленки для производства графитизации PI пленки

Применение:

Применяется для производства графитизации высокотеплопроводной пленки (PI пленки).

Особенности:

Равномерность температуры корпуса печи: среднечастотный индукционный нагрев, быстрый нагрев, высокая эффективность, уникальная конструкция печи, значительно улучшающая равномерность температуры печи;
Низкое энергопотребление и хорошая стабильность: первое в мире использование двухслойного изоляционного материала из глиноземного кирпича для предотвращения короткого замыкания углеродного войлока и катушки, хорошая теплоизоляция и огнестойкость, низкие тепловые потери и хорошая стабильность оборудования;
В соответствии с потребностями времени процесса спекания, несколько электрических печей могут быть расположены в одном источнике питания, и несколько печей соответственно запитываются для повышения температуры и отключения питания и охлаждения для реализации непрерывной работы;
Цифровая система мониторинга потока, мониторинг потока воды и защита каждого шкафа питания, высокопроизводительный среднечастотный контактор для преобразования печи; комплексная система автоматического управления и защиты PLC водой, электричеством и газом.
Основные технические параметры:
Максимальная рабочая температура: 3000 ° C
Обычная температура: 2800 ° C
Рабочая атмосфера в печи: вакуум, водород, азот, инертный газ и т. д.
Равномерность температуры: ≤ ± 25 ° C
Измерение температуры: дальнее инфракрасное оптическое измерение температуры (1000-3200 ° C);
Точность измерения температуры: от 0,2 до 0,75%
Контроль температуры: программное управление и ручное управление; точность контроля температуры: ±1 °C