Hoge geleidbaarheid film lab vacuümoven voor PI film grafitisatie productie

Hooggeleidende Film Grafitisatieoven voor PI Film Grafitisatie Productie

Toepassing:

Het wordt toegepast op de grafitisatieproductie van hoogthermische geleidingsfilm (PI-film).

Kenmerken:

De temperatuuruniformiteit van de oven: de middenfrequentie inductieverwarming, snelle verwarming, hoog rendement, uniek ovenontwerp, waardoor de temperatuuruniformiteit van de oven aanzienlijk wordt verbeterd;
Laag energieverbruik en goede stabiliteit: 's werelds eerste gebruik van dubbellaagse aluminiumoxide baksteen isolatiemateriaal om kortsluiting van koolstofvilt en spoel te voorkomen, goede warmte-isolatie en brandwerendheid, laag warmteverlies en goede apparatuurstabiliteit;
Afhankelijk van de behoeften van het sinterproces kunnen meerdere elektrische ovens in één enkele voeding worden geplaatst, en de meerdere ovens worden respectievelijk bekrachtigd om de temperatuur te verhogen en uit te schakelen en af te koelen om continue werking te realiseren;
Digitaal flow monitoring systeem, waterstroom monitoring en bescherming van elke voedingskast, hoogwaardige middenfrequentie contactor voor ovenconversie; uitgebreid PLC water-, elektriciteits- en gas automatisch besturings- en beveiligingssysteem.
De belangrijkste technische parameters:
Maximale bedrijfstemperatuur: 3000 °C
Gemeenschappelijke temperatuur: 2800 °C
Werkatmosfeer in de oven: vacuüm, waterstof, stikstof, inert gas, etc.
Temperatuuruniformiteit: ≤ ± 25 °C
Temperatuurmeting: ver-infrarood optische temperatuurmeting (1000-3200 °C);
Temperatuurmeetnauwkeurigheid: 0,2 tot 0,75%
Temperatuurregeling: programma besturing en handmatige besturing; temperatuurregelnauwkeurigheid: ±1 °C