Κλίβανος κενού εργαστηρίου φιλμ υψηλής αγωγιμότητας για την παραγωγή γραφιτοποίησης φιλμ PI

Φούρνος γραφιτοποίησης φιλμ υψηλής αγωγιμότητας για παραγωγή γραφιτοποίησης φιλμ PI

Εφαρμογή:

Εφαρμόζεται στην παραγωγή γραφιτοποίησης φιλμ υψηλής θερμικής αγωγιμότητας (φιλμ PI).

Χαρακτηριστικά:

Η ομοιομορφία θερμοκρασίας του σώματος του φούρνου: θέρμανση επαγωγής μέσης συχνότητας, γρήγορη θέρμανση, υψηλή απόδοση, μοναδικός σχεδιασμός φούρνου, βελτιώνοντας σημαντικά την ομοιομορφία θερμοκρασίας του φούρνου;
Χαμηλή κατανάλωση ενέργειας και καλή σταθερότητα: η πρώτη στον κόσμο χρήση μονωτικού υλικού από διπλό στρώμα τούβλων αλουμίνας για την αποφυγή βραχυκυκλώματος από τσόχα άνθρακα και πηνίο, καλή θερμομόνωση και πυραντίσταση, χαμηλή απώλεια θερμότητας και καλή σταθερότητα εξοπλισμού;
Σύμφωνα με τις ανάγκες του χρόνου της διαδικασίας πυροσυσσωμάτωσης, μπορεί να τοποθετηθούν πολλοί ηλεκτρικοί φούρνοι σε ένα μόνο τροφοδοτικό και οι πολλοί φούρνοι ενεργοποιούνται αντίστοιχα για να αυξήσουν τη θερμοκρασία και να απενεργοποιηθούν και να κρυώσουν για να πραγματοποιηθεί συνεχής λειτουργία;
Ψηφιακό σύστημα παρακολούθησης ροής, παρακολούθηση ροής νερού και προστασία κάθε ντουλαπιού τροφοδοσίας, επαφέας μέσης συχνότητας υψηλής απόδοσης για μετατροπή φούρνου. ολοκληρωμένο σύστημα αυτόματου ελέγχου και προστασίας PLC νερού, ηλεκτρικού ρεύματος και αερίου.
Οι κύριες τεχνικές παράμετροι:
Μέγιστη θερμοκρασία λειτουργίας: 3000 ° C
Συνήθης θερμοκρασία: 2800 ° C
Εργασιακή ατμόσφαιρα στον φούρνο: κενό, υδρογόνο, άζωτο, αδρανές αέριο κ.λπ.
Ομοιομορφία θερμοκρασίας: ≤ ± 25 ° C
Μέτρηση θερμοκρασίας: μέτρηση θερμοκρασίας μακρινής υπέρυθρης ακτινοβολίας (1000-3200 ° C);
Ακρίβεια μέτρησης θερμοκρασίας: 0,2 έως 0,75%
Έλεγχος θερμοκρασίας: έλεγχος προγράμματος και χειροκίνητος έλεγχος. ακρίβεια ελέγχου θερμοκρασίας: ±1 °C