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グラフィティゼーション 高温炉 アノード材料 低エネルギー消費

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グラフィティゼーション 高温炉 アノード材料 低エネルギー消費
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特徴
仕様
名前: グラファイトアノード炉
最大動作温度: 3000℃
共通の温度: 2800°C
温度の均一性: ≤ ± 25 °C
温度制御の精度: ±1 °C
寸法(長さ*幅*高さ): カスタムメイド
ハイライト:

高温真空の炉

,

高温炉

基本情報
起源の場所: 中国
ブランド名: OEM
証明: CE Certification
モデル番号: OEM
お支払配送条件
パッケージの詳細: カートン,パレット,木製のケース,または顧客のパッケージの要求に応じて
受渡し時間: 30営業日
支払条件: 出荷前に30%のデポジット + 70%t/t
供給の能力: 毎月20セット
製品の説明

アノード材料グラフィティゼーション炉 JRシリーズ 低エネルギー消費

 

 

特徴:


炉体の温度均一性:中周波感熱,高速加熱,高効率,ユニークな炉設計炉の温度均一性を大幅に改善する;
低エネルギー消費と良好な安定性: 二層アルミナレンガの隔熱材料を世界で初めて使用し,炭素フェルトとコイル短回路を防ぐ熱隔熱と耐火性が良い低熱損失と設備の安定性


シンテリングプロセスの需要に応じて,複数の電気炉を1つの電源に配置することができる.温度を上昇させ,電力を停止し,冷却し,連続的な動作を達成するために,それぞれエネルギーが供給されます;
電子流量モニタリングシステム,各電源キャビネットの水流量モニタリングと保護,高性能の中間周波数コンタクター 炉変換のための; 総合的なPLC水,電気とガスの自動制御・保護システム.

 

技術パラメータとモデル仕様:


最大動作温度:3000°C
共通温度: 2800 °C
炉内の作業環境:アルゴン,窒素
温度均一性: ≤ ± 25 °C
温度測定:赤外線光学温度測定 (1000~3200°C)
温度測定精度:0.2〜0.75%
温度制御:プログラム制御と手動制御
温度制御精度: ±1 °C

 

 

適用:


電池アノード材料のグラフィティゼーション生産に適用される

 

 

容量 (L) 125 196 282 550 1000 1500
指定温度 (°C) 2800 2800 2800 2800 2800 2600
制限温度 (°C) 3000 3000 3000 3000 3000 2800
効果的加熱ゾーン (mm) Φ400X1000 Φ500X1000 Φ600X1000 Φ700X1400 Φ900X1600 Φ1000X2000
パワー (KW) 150 250 350 550 700 1000
周波数 (Hz) 1500 1000 1000 1000 1000 1000
温度制御方法 日本 島 の 電気 温度 計
暖房方法 インダクション加熱
バキュームシステム ローータリーバネ真空ポンプ (Roots真空ポンプの高真空要求)
シンター環境 N2,Ar2その他のガス
電源の電圧 (V) 380
熱電圧 (V) 750
バキューム制限 (pa) 100 (真空冷却状態)

 

 

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