Four à dépôt chimique en phase vapeur (CVD), Four de frittage automatique de zircone
Application du four à dépôt chimique en phase vapeur :
Four à dépôt chimique en phase vapeur peut être utilisé pour le dépôt chimique en phase vapeur de matériaux composites avec du gaz carboné (tel que C3H8, etc.) comme source de carbone, comme le traitement CVD et CVI des matériaux composites C/C et des matériaux composites SiC.
Caractéristiques du four à dépôt chimique en phase vapeur :
Grâce à une technologie de contrôle avancée, il peut contrôler avec précision le débit et la pression du gaz, le débit de gaz de dépôt dans le four est stable et la plage de fluctuation de la pression est faible ;
La chambre de dépôt de structure spéciale a un bon effet d'étanchéité et une forte capacité anti-pollution ;
Le trajet de gaz de dépôt multicanal est adopté, le champ d'écoulement est uniforme, l'angle mort de dépôt n'est pas formé et l'effet de dépôt est bon ;
Les gaz de queue hautement corrosifs, les gaz inflammables et explosifs, la poussière solide et les produits visqueux à bas point de fusion produits par le dépôt peuvent être traités efficacement ;
La dernière unité à vide anticorrosion a une longue durée de fonctionnement et un faible taux de maintenance.
Configuration principale du four de dépôt
Porte du four : levage à vis / / levage hydraulique / ; verrouillage manuel / verrouillage automatique à anneau
Enveloppe du four : acier au carbone complet / couche interne en acier inoxydable / tout en acier inoxydable
Four : feutre de carbone souple / feutre de graphite souple / feutre composite dur
Chauffage : graphite isostatique / graphite moulé trois hauts / graphite fin
Système de gaz de procédé : débitmètre volumétrique / massique ; vanne manuelle / vanne automatique ; importé / domestique
Pompe à vide et vacuomètre---importation/domestique
Interface homme-machine : écran tactile / ordinateur industriel
Composants électriques : Chint / Schneider / Siemens
| Volume (L) |
35 |
226 |
602 |
1177 |
1899 |
| Température maximale (°C) |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
| Taille de la zone de travail D × H (mm) |
Φ300×500 |
Φ600×800 |
Φ800×1200 |
Φ1000×1500 |
Φ1100×2000 |
| Méthode de contrôle de la température |
Contrôleur de température électrique Island Electric du Japon |
| Méthode de chauffage |
Chauffage par résistance |
| Système de vide |
Pompe anti-encrassement ou pompe à palettes + pompe Roots |
| Atmosphère de frittage |
Gaz hydrocarbures, etc. |
| Tension d'alimentation nominale (V) |
380 |
| Tension de chauffage nominale (V) |
Selon la conception, configurer le transformateur du four |
| Limite de vide (Pa) |
6X10ˉ2 (état froid sous vide) |
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