Forneau de dépôt de vapeur chimique CVD, Forneau de frittage de zirconium automatique
Application dans les fours de dépôt chimique de vapeur:
Fourneau de dépôt chimique à vapeur peut être utilisé pour la déposition chimique de vapeur de matériaux composites avec du gaz de carbone (comme le C3H8, etc.) comme source de carbone,tels que le traitement CVD et CVI des matériaux composites C/C et des matériaux composites SiC.
Caractéristiques du four de dépôt de vapeur chimique:
En utilisant une technologie de contrôle avancée, il peut contrôler avec précision le débit et la pression du gaz, le débit de gaz de dépôt dans le four est stable et la plage de fluctuations de pression est faible;
La chambre de dépôt de structure spéciale a un bon effet d'étanchéité et une forte capacité antipollution;
La voie du gaz de dépôt multicanal est adoptée, le champ d'écoulement est uniforme, l'angle mort de dépôt n'est pas formé et l'effet de dépôt est bon;
Les gaz de réserve hautement corrosifs, les gaz inflammables et explosifs, les poussières solides et les produits visqueux à faible point de fusion produits par dépôt peuvent être traités efficacement;
L'unité de vide anti-corrosion de dernière génération a une longue durée de fonctionnement et un faible taux d'entretien.
Configuration principale du four de dépôt
Porte du four: élévation à vis / / élévation hydraulique /; verrouillage manuel / verrouillage automatique verrouillage à anneau
Carcasse de four: acier au carbone complet / acier inoxydable à couche interne / tout acier inoxydable
Furonnerie: feutre de carbone souple / feutre de graphite souple / feutre composite dur
Chauffage: graphite isostatique / graphite moulé à trois hauteurs / graphite fin
Système de gaz de procédé: débitmètre de volume / masse; vanne manuelle / vanne automatique; importé / national
Pompes à vide et jauges à vide --- importées/domestiques
Interface homme machine: écran tactile / ordinateur industriel
Composants électriques: Chint / Schneider / Siemens
| Volume (L) | 35 | 226 | 602 | 1177 | 1899 |
| Température maximale (°C) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| Taille de la surface de travail D × H (mm) | Φ300 × 500 | Φ600 × 800 | Φ800 × 1200 | Φ1000 × 1500 | Φ1100 × 2000 |
| Méthode de régulation de la température | Contrôleur de température électrique de l'île du Japon | ||||
| méthode de chauffage | Chauffage par résistance | ||||
| Système sous vide | Pompes anti-encrassement ou pompes à bobines + pompes racines | ||||
| Atmosphère de frittage | Gaze d'hydrocarbures et autres | ||||
| Voltage nominal de l'alimentation électrique (V) | 380 | ||||
| Voltage de chauffage nominal (V) | Conformément à la conception, configurer le transformateur de four | ||||
| Limite de vide (Pa) | 6X10?? 2 (état froid sous vide) | ||||
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