CVD化学気相成長炉、自動ジルコニア焼結炉
化学気相成長炉の用途:
化学気相成長炉 炭素源として炭素ガス（C3H8など）を用いた複合材料の化学気相成長に使用でき、C/C複合材料やSiC複合材料のCVDおよびCVI処理などが行えます。
化学気相成長炉の特徴:
高度な制御技術を採用し、ガスの流量と圧力を正確に制御でき、炉内の堆積ガス流は安定しており、圧力変動範囲は小さいです。
特殊構造の堆積チャンバーは、優れたシール効果と強力な耐汚染能力を備えています。
多チャンネルの堆積ガス経路を採用し、流場が均一で、堆積デッドアングルが形成されず、堆積効果が良好です。
腐食性の高いテールガス、可燃性および爆発性のガス、固体の粉塵、および堆積によって生成される低融点粘性製品を効果的に処理できます。
最新設計の耐腐食真空ユニットは、長い稼働時間と低いメンテナンス率を実現しています。
堆積炉の主な構成
炉扉：スクリューリフト//油圧リフト/;手動ロック/自動ロックリングロック
炉殻：全炭素鋼/内層ステンレス鋼/全ステンレス鋼
炉：ソフトカーボンフェルト/ソフトグラファイトフェルト/ハード複合フェルト
ヒーター：等方性グラファイト/成形三高グラファイト/微細グラファイト
プロセスガスシステム：体積/質量流量計;手動バルブ/自動バルブ;輸入/国産
真空ポンプと真空計---輸入/国産
マンマシンインターフェース：タッチスクリーン/産業用コンピュータ
電気部品：Chint/Schneider/Siemens
| 容量（L） | 35 | 226 | 602 | 1177 | 1899 |
| 最高温度（℃） | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| 作業領域サイズ D × H（mm） | Φ300×500 | Φ600×800 | Φ800×1200 | Φ1000×1500 | Φ1100×2000 |
| 温度制御方法 | 日本島電温度コントローラー | ||||
| 加熱方法 | 抵抗加熱 | ||||
| 真空システム | 防汚ポンプまたはスプールポンプ+ルーツポンプ | ||||
| 焼結雰囲気 | 炭化水素ガスなど | ||||
| 定格電源電圧（V） | 380 | ||||
| 定格加熱電圧（V） | 設計に応じて、炉変圧器を構成します | ||||
| 真空限界（Pa） | 6X10²（真空コールド状態） | ||||
