Κλίβανος εναπόθεσης χημικών ατμών (CVD), Αυτόματος κλίβανος πυροσυσσωμάτωσης ζιρκονίας

Φούρνος εναπόθεσης χημικών ατμών CVD, Φούρνος αυτόματης σύντηξης ζιρκονίας

Εφαρμογή φούρνου εναπόθεσης χημικών ατμών:

Φούρνος εναπόθεσης χημικών ατμών μπορεί να χρησιμοποιηθεί για χημική εναπόθεση σύνθετων υλικών με αέριο άνθρακα (όπως C3H8, κ.λπ.) ως πηγή άνθρακα, όπως η επεξεργασία CVD και CVI σύνθετων υλικών C/C και σύνθετων υλικών SiC.

Χαρακτηριστικά φούρνου εναπόθεσης χημικών ατμών:

Χρησιμοποιώντας προηγμένη τεχνολογία ελέγχου, μπορεί να ελέγξει με ακρίβεια τη ροή και την πίεση του αερίου, η ροή του αερίου εναπόθεσης στον φούρνο είναι σταθερή και το εύρος διακύμανσης της πίεσης είναι μικρό.

Ο ειδικός θάλαμος εναπόθεσης δομής έχει καλό αποτέλεσμα στεγανοποίησης και ισχυρή ικανότητα κατά της ρύπανσης.

Υιοθετείται η διαδρομή αερίου εναπόθεσης πολλαπλών καναλιών, το πεδίο ροής είναι ομοιόμορφο, δεν σχηματίζεται νεκρή γωνία εναπόθεσης και το αποτέλεσμα εναπόθεσης είναι καλό.

Το εξαιρετικά διαβρωτικό αέριο ουράς, το εύφλεκτο και εκρηκτικό αέριο, η στερεή σκόνη και τα ιξώδη προϊόντα χαμηλού σημείου τήξης που παράγονται από την εναπόθεση μπορούν να υποβληθούν σε αποτελεσματική επεξεργασία.

Η τελευταία μονάδα κενού κατά της διάβρωσης έχει μεγάλο χρόνο εργασίας και χαμηλό ρυθμό συντήρησης.

Κύρια διαμόρφωση φούρνου εναπόθεσης

Θύρα φούρνου: ανύψωση με βίδα / / υδραυλική ανύψωση /; χειροκίνητο κλείδωμα / αυτόματο κλείδωμα δακτυλίου

Κέλυφος φούρνου: πλήρης ανθρακούχος χάλυβας / εσωτερικό στρώμα ανοξείδωτου χάλυβα / όλος ανοξείδωτος χάλυβας

Φούρνος: μαλακό τσόχα άνθρακα / μαλακό τσόχα γραφίτη / σκληρό σύνθετο τσόχα

Θερμαντήρας: ισοστατικός γραφίτης / χυτευμένος τριών υψηλών γραφίτης / λεπτός γραφίτης

Σύστημα αερίου διεργασίας: μετρητής ροής όγκου / μάζας; χειροκίνητη βαλβίδα / αυτόματη βαλβίδα; εισαγόμενη / εγχώρια

Αντλία κενού και μετρητής κενού---εισαγόμενη/εγχώρια

Διεπαφή ανθρώπου-μηχανής: οθόνη αφής / βιομηχανικός υπολογιστής

Ηλεκτρικά εξαρτήματα: Chint / Schneider / Siemens