アルミニウム溶解用タッチスクリーン誘導炉 遠赤外線温度計
真空誘導溶解炉主な技術パラメータ：
最高温度：3000℃
高温ゾーン容量：0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、0.1m3、0.15m3、0.2m3、0.3m3
炉内雰囲気：真空、水素、窒素、不活性ガス
温度均一性：≤ ± 10℃
温度測定：赤外線光学温度測定範囲800～3500℃または0～3500℃; 精度：0.2～0.75％。
温度制御：プロセス制御と手動制御; 制御精度：±1℃
限界加熱速度：200℃/分（空気炉、容量と高温炉の構成による）。
特徴：
1. 高温：最大3000℃;
2. 遠赤外線温度計;
3. 水冷;
4. PID制御;
5. 黒鉛るつぼ。
用途
真空誘導溶解炉は、金属材料またはセラミック部品の低真空または高真空での熱処理に広く使用されており、特にステンレス鋼、高温合金、超硬合金、非鉄金属などの材料の還元性または保護雰囲気下での真空ろう付けに使用されます。また、炭化プロセス開発における炭素製品などの特殊な熱処理にも使用できます。炉室は優れた断熱性を備えたセラミックファイバーです。水冷システムを備えた真空貯蔵庫。
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