炭化ケイ素およびセラミックス用誘導加熱式水平真空炉
水平真空炉の用途:
誘導加熱式水平真空炉 は、炭化ケイ素、セラミックス、超硬合金、粉末冶金、タングステン、モリブデン、アルミ-ニッケル-コバルト永久磁石、Smco5、Sm2co17、アルミニウム合金シェッド、チタン合金およびその他の合金材料の真空焼結および雰囲気焼結に主に使用されます。焼結プロセスの時間的ニーズに応じて、単一の電源を使用して複数の電気炉を構成でき、個々の炉はそれぞれ通電して加熱し、電源をオフにして冷却し、連続運転を実現します。
水平真空炉の主な仕様
最高使用温度：2450℃
常用温度：2400℃
高温ゾーンの体積：200〜2000mm×300〜4000mm; または正方形
加熱方法：誘導加熱
焼結プロセスの時間的ニーズに応じて、単一の電源に複数の電気炉を配置でき、個々の炉の加熱と冷却をそれぞれ実行して、連続運転を実現できます。
温度測定：WRe5/26熱電対（0〜1700℃）+ US RATEK二色温度計（1000〜3200℃）; US RATEK単色温度計（300〜1100℃）+ US RATEK二重比色温度計（1000〜3200℃）
このデバイスは、マルチチャネルデータ収集を採用し、マンマシンインターフェースで表示および操作します。操作パラメータは一目でわかり、操作が簡単で、労働強度が低いです。
このデバイスにはデータロギングとダンプ機能があり、データは履歴曲線を通じて表示でき、リムーバブルストレージメディアに転送できます。
| 体積（L） | 350 | 484 | 1920 |
| 定格温度（℃） | 2400 | 2400 | 2400 |
| 限界温度（℃） | 2450 | 2450 | 2450 |
| 有効加熱ゾーン（mm） | 500X500X1400 | 550X550X1600 | 800X800X3000 |
| 電力（KW） | 250 | 350 | 800 |
| 周波数（HZ） | 1000 | 1000 | 1000 |
| 温度制御方法 | 日本島電サーモスタット | ||
| 加熱方法 | 誘導加熱 | ||
| 真空システム | ロータリーベーン真空ポンプまたはスプール型真空ポンプ+ルーツ真空ポンプ（高油分配拡散ポンプによる真空度要件） | ||
| 焼結雰囲気 | N2、Ar2など | ||
| 定格電源電圧（V） | 380 | ||
| 定格加熱電圧（V） | 設計に従って、変圧器を構成します | ||
| 真空限界（pa） | 6X10ˉ2（真空コールド状態） | ||
