便利な真空熱処理炉、高精度グラファイト真空炉
真空熱処理炉は、炭化ケイ素無加圧（常圧）焼結の自動生産設備に特別に適合しています。この装置は、一定温度場最適化設計を採用しており、成形剤除去-真空焼結-炉内無加圧焼結を一度に行う機能を備えています。この炉は様々な雰囲気に適応でき、炭化ケイ素や窒化ケイ素の製造に適しています。プロセスは準備が簡単で、炉内の圧力、真空度、雰囲気は効果的かつ正確に制御されます。炉内の温度場は均一で、焼結室の設計は合理的です。これは、無加圧焼結と低真空焼結の両方が可能な高度な超高温焼結装置です。
真空熱処理炉の用途:
主に、炭化ケイ素、セラミックス、超硬合金、粉末冶金、タングステン、モリブデン、AlNiCo永久磁石、Smco5、Sm2co17、アルミニウム合金シェッド、チタン合金などの合金材料の真空、雰囲気焼結に使用されます。
主な性能と技術パラメータ:
最高動作温度：2380℃
常用温度：2280℃
高温ゾーン容量：200-2000mm×300-4000mm; または正方形
加熱方法：グラファイト管リスケージ構造
温度制御精度：±1℃
温度制御モード：WRe5/26熱電対（0-1700℃）+ US RATEK二色温度計赤外線温度計（1000-3200℃）
電力調整モード：サイリスタ位相シフト調整
冷却方法
冷却水温度＜35℃
この装置は測定記録機能を備えており、10,000回のデータを記録でき、履歴曲線を通じてデータを照会できます。
台湾製の輸入電力レギュレータを採用し、サイリスタ過負荷、短絡、過電圧保護を完備しています。
全機のマルチチャンネルデータ収集を行い、マンマシンインターフェースで表示および操作し、全機の動作パラメータを一目で確認でき、操作が簡単です。
炉体：二重層水冷構造で、真空下で真空引きが可能。真空パイプインターフェース、真空故障バルブ、およびインフレーションホールを備えています。
均一温度：グラファイトロッド組み合わせ加熱方式、良好な温度均一性。
便利な操作：炉体は水平で、前後の二重ドアがあり、積み降ろしに便利で、操作が簡単です。
| 容量（L） | 150 | 274 | 452 | 769 |
| 定格温度（℃） | 2280 | 2280 | 2280 | 2280 |
| 限界温度（℃） | 2380 | 2380 | 2380 | 2380 |
| 電力（KW） | 180 | 250 | 300 | 500 |
| 温度制御方法 | 日本島電サーモスタット | |||
| 加熱方法 | 抵抗加熱 | |||
| 真空システム | スプールバルブ真空ポンプ+ルーツ真空ポンプ（真空度は高油配分拡散ポンプが必要） | |||
| 焼結雰囲気 | N2、Ar2など | |||
| 定格電源電圧（V） | 380 | |||
| 定格加熱電圧（V） | 設計に従って、炉変圧器を構成します | |||
| 真空限界（Pa） | 40（真空コールド状態） | |||
