便利な真空熱処理炉 高精度グラフィット真空炉
真空熱処理炉は,特にシリコンカービッドの圧感のない (正気圧) シンタリングの自動生産機器に適しています.設備は,恒温フィールド最適化設計を採用形状剤-真空シンタリング-圧力なしのシンタリングを炉の中で一度除去する機能があります.炉は様々な大気に適応し,シリコンカービードとシリコンナイトリドの生産に適しています調理は簡単で,炉内の圧力,真空度,大気は効率的かつ正確に制御されます.炉内の温度場は均一で,シンテリング室の設計は合理的です.超高温シンタリング機器で 圧力をかけないシンタリングと低真空シンタリングの両方を可能にします
真空熱処理炉の適用:
主に真空,シリコンカービッド,セラミックス,セメントカルビッド,粉末金属工,ウラン,モリブデン,AlNiCo永久磁石,Smco5,Sm2co17とアルミニウム合金シェードに使用されるチタン合金および他の合金材料.
主な性能と技術パラメータ:
最大動作温度: 2380 °C
共通温度: 2280 °C
高温ゾーンの体積: 200~2000mm × 300~4000mm または正方形
加熱方法 グラフィット管のリスの檻構造
温度制御精度: ±1 °C
温度制御モード:WRe5/26熱対 (0-1700 °C) +US RATEK 双色測定赤外線温度計 (1000-3200 °C)
電源調節モード タイリスターの相位シフト調節
冷却方法
冷却水温 <35°C
装置には計測記録機能があり,10,000回ものデータを記録し,データを過去曲線でクエリすることができる.
台湾から輸入された電源レギュレーター,非常に完全なタイリスター過負荷,ショート回路,過電圧保護を採用します.
マシン全体のマルチチャネルデータ収集,人間機械インターフェースの表示と操作,全マシンの動作パラメータは一目瞭然で操作が簡単です
オーブンのボディ:真空下で真空をポンプできる二層水冷蔵構造.真空管インターフェース,真空障害バルブ,膨張孔があります.
均一温度:グラフィット棒結合加熱方法,良好な温度均一性
便利な操作:炉体は水平で,前と後ろのドアが2つあり,積載と卸載に便利で操作が簡単です.
| 容量 (L) | 150 | 274 | 452 | 769 |
| 指定温度 (°C) | 2280 | 2280 | 2280 | 2280 |
| 制限温度 (°C) | 2380 | 2380 | 2380 | 2380 |
| パワー (KW) | 180 | 250 | 300 | 500 |
| 温度制御方法 | 日本 島 の 電気 温度 計 | |||
| 暖房方法 | 抵抗加熱 | |||
| バキュームシステム | スロールバルブ真空ポンプ + ルーツ真空ポンプ (真空程度は高いオイル配送拡散ポンプを必要とします) | |||
| シンター環境 | N2,Ar2 など | |||
| 電源の電圧 (V) | 380 | |||
| 熱電圧 (V) | 設計に従って,オーブンのトランスフォーマーを設定 | |||
| バキューム制限 (Pa) | 40 (真空冷却状態) | |||
