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シリコン・カービッド再結晶のための多重電気真空シンタリング炉

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シリコン・カービッド再結晶のための多重電気真空シンタリング炉
特徴 ギャラリー 製品の説明 評価とレビュー 見積依頼
特徴
仕様
名前: 産業炉
特徴: 複数の電気
寸法(l*w*h): カスタム
冷却方法: 内部循環冷却
最大動作温度: 2450°C
アプリケーション: 炭化シリコンの再結晶
ハイライト:

バキューム・テンパリング・オーブン

,

高真空の炉

基本情報
起源の場所: 中国
ブランド名: OEM
証明: CE Certification
モデル番号: OEM
お支払配送条件
パッケージの詳細: カートン,パレット,木製のケース,または顧客のパッケージの要求に応じて
受渡し時間: 30営業日
支払条件: 出荷前に30%のデポジット + 70%t/t
供給の能力: 月あたり20セット
製品の説明

炭化ケイ素再結晶用多重電気真空焼結炉

 

真空焼結炉の用途:

 

真空焼結炉は主に炭化ケイ素の再結晶に使用されます

 

主な技術性能と指標

 

最高使用温度:2450℃

常用温度:2400℃

加熱方法:誘導加熱

炉内の作業ガス:窒素アルゴン

温度均一性:≤±10℃

温度制御精度:±1℃

焼結プロセスの時間のニーズに応じて、複数の電気炉を単一の電源に配置し、個々の炉の加熱と冷却をそれぞれ実行して、連続運転を実現できます。

温度測定:WRe5/26熱電対(0-1700℃)+ US RATEK二色温度計(1000-3200℃);US RATEK単色温度計(300-1100℃)+ US RATEK二重比色温度計(1000-3200℃)

温度制御:PIDインテリジェントプログラム制御と手動制御

優れたプロセス性能により、製品品質が新たな段階へ

炭化ケイ素焼結炉は優れたプロセス性能を備えており、製造される製品は均一な粒子、完全な反応、高い炭素含有量、および良好な品質を備えています。

この装置は、マルチチャネルデータ収集を採用し、マンマシンインターフェースで表示および操作します。操作パラメータは一目でわかり、操作は簡単で、労働強度は低いです。

この装置はデータ記録およびダンプ機能を備えており、履歴曲線を通じてデータを確認し、モバイルストレージメディアに転送できます。

省エネ、特殊コイルおよび断熱構造、安定した電力出力、および高い電気効率。

 

容量(L) 192 350 484 1920
定格温度(℃) 2400 2400 2400 2400
限界温度(℃) 2450 2450 2450 2450
有効加熱ゾーン(mm) 400X400X1200 500X500X1400 550X550X1600 800X800X3000
電力(KW) 150 250 350 550
周波数(HZ) 1500 1000 1000 1000
温度制御方法 日本島電サーモスタット
加熱方法 誘導加熱
真空システム スプールバルブ真空ポンプ+ルーツ真空ポンプ
焼結雰囲気 N2、Ar2など
定格電源電圧(V) 380
定格加熱電圧(V) 設計に従って、変圧器を構成します
真空限界(pa) 40(真空コールド状態)

 

評価とレビュー

総合評価

4.0
このサプライヤーに対する50件のレビューに基づいています

評価のスナップショット

すべての評価の分布は以下の通りです
5 星
67%
4 星
0%
3 星
0%
2 星
33%
1 星
0%

すべてのレビュー

S
Songshang
Tuvalu Oct 29.2025
"Setting the IPD on my Pico 4 was a game-changer! The three physical presets cover most ranges, and the difference in sharpness is noticeable.
H
h*o
Vatican City State (Holy See) Oct 24.2025
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Mixue
United States Oct 23.2025
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